氣相沉積爐的特點是什么
氣相沉積爐的特點是什(shen)么
氣相沉積爐可用(yong)于以(yi)碳(tan)氫(qing)氣(qi)體為碳(tan)源的(de)復(fu)合材料(liao)的(de)化(hua)(hua)(hua)學氣(qi)相沉積。其中CVD沉積爐是(shi)(shi)指高(gao)溫下(xia)(xia)的(de)氣(qi)相反應(ying),例如(ru),金(jin)屬鹵化(hua)(hua)(hua)物(wu)(wu)、有(you)機(ji)金(jin)屬、碳(tan)氫(qing)化(hua)(hua)(hua)合物(wu)(wu)等(deng)的(de)熱(re)分解,氫(qing)還原(yuan)或使(shi)它的(de)混合氣(qi)體在高(gao)溫下(xia)(xia)發生化(hua)(hua)(hua)學反應(ying)以(yi)析出金(jin)屬、氧化(hua)(hua)(hua)物(wu)(wu)、碳(tan)化(hua)(hua)(hua)物(wu)(wu)等(deng)無機(ji)材料(liao)的(de)方法。這(zhe)種技術開始是(shi)(shi)作為涂層的(de)手(shou)段而開發的(de),但目前,不(bu)只應(ying)用(yong)于耐熱(re)物(wu)(wu)質的(de)涂層,而且應(ying)用(yong)于高(gao)純度(du)金(jin)屬的(de)精制、粉末合成、半導體薄(bo)膜等(deng),是(shi)(shi)一(yi)個頗(po)具特征(zheng)的(de)技術領域。

設備特點(dian)在于:(1)在低溫(wen)下合成(cheng)(cheng)高(gao)(gao)熔點(dian)物質;(2)析出物質的形態在單晶(jing)、多晶(jing)、晶(jing)須(xu)、粉末、薄(bo)膜等多種;(3)不僅(jin)可(ke)以(yi)在基(ji)片上進行(xing)涂層(ceng),而(er)且(qie)可(ke)以(yi)在粉體(ti)表面(mian)涂層(ceng),特別是(shi)(shi)在低溫(wen)下可(ke)以(yi)合成(cheng)(cheng)高(gao)(gao)熔點(dian)物質,在節能方面(mian)做出了貢獻,作為一種新(xin)技術是(shi)(shi)大有前途(tu)的。
下面小編(bian)詳(xiang)細(xi)列舉幾(ji)條爐(lu)子的(de)特點,以便大家能更好的(de)了解(jie)爐(lu)子的(de)性能。
氣相沉積爐工作區(qu)尺寸可達(da)2.5m×2m×4.5m,能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求;并(bing)且,采用多溫(wen)區(qu)獨立控(kong)溫(wen),溫(wen)度均勻性(xing)好;
與此同時采(cai)用特殊結(jie)構沉積(ji)室(shi),密封(feng)效(xiao)果好,抗污染能力強;
氣相(xiang)沉(chen)(chen)積(ji)爐采用多通道沉(chen)(chen)積(ji)氣路,流(liu)場均勻,無(wu)沉(chen)(chen)積(ji)死角,沉(chen)(chen)積(ji)效果好;
氣(qi)相沉(chen)積爐(lu)對炭沉(chen)積過程中產生的焦(jiao)油(you)、固體粉塵、有機(ji)氣(qi)體等能(neng)進行(xing)有效處理。
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