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真空速凝爐
真空/氣氛保護感應燒結爐
真空熔煉爐
CVI/CVD氣相沉積爐
真空碳化爐
真空高溫石墨化爐
真空石墨煅燒爐
真空熱處理爐
整流器和晶閘管
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真空(kong)速凝爐(lu)（又名甩帶(dai)爐(lu)或甩片爐(lu)）是利用真空(kong)感應(ying)熔(rong)煉的方法(fa)，在(zai)真空(kong)或惰性氣體狀態下(xia)把合金原料熔(rong)煉并澆鑄在(zai)旋轉的水(shui)冷(leng)輥上急速凝固后，再在(zai)水(shui)冷(leng)盤上
真空速凝(ning)爐(lu)(lu)II型（甩帶爐(lu)(lu)II型）是我公司在真空速凝(ning)爐(lu)(lu)I型的(de)基(ji)礎上(shang)研發(fa)的(de)技(ji)術性能更先進、效率(lv)更高的(de)新一代釹鐵(tie)硼磁材熔煉(lian)設備。它采用地坑(keng)收(shou)料罐式
真(zhen)空(kong)/氫氣(qi)保(bao)護中頻感應燒結爐是在真(zhen)空(kong)環境或氫氣(qi)氣(qi)氛中通(tong)過感應加(jia)熱，在粉末冶金工藝(yi)中對金屬(shu)進行燒結的工業設備(bei)。加(jia)熱同時，氫氣(qi)還可對工件起(qi)到還原
真空(kong)(kong)/氫(qing)氣(qi)保護中(zhong)(zhong)頻感(gan)應(ying)燒結爐是在(zai)(zai)真空(kong)(kong)環(huan)境或氫(qing)氣(qi)氣(qi)氛中(zhong)(zhong)通過感(gan)應(ying)加熱(re)(re)，在(zai)(zai)粉末冶金工(gong)藝中(zhong)(zhong)對(dui)金屬(shu)進行燒結的工(gong)業設備。加熱(re)(re)同時，氫(qing)氣(qi)還可對(dui)工(gong)件起(qi)到還原
真(zhen)空/氫氣(qi)保護中(zhong)頻(pin)感(gan)應燒結(jie)爐(lu)是(shi)在真(zhen)空環(huan)境或氫氣(qi)氣(qi)氛中(zhong)通過感(gan)應加熱，在粉末冶(ye)金工藝(yi)中(zhong)對(dui)金屬(shu)進(jin)行燒結(jie)的工業設備(bei)。加熱同時(shi)，氫氣(qi)還可對(dui)工件起到還原
AIC-30型真(zhen)空熔(rong)煉爐主(zhu)要用于(yu)特種金屬，如(ru)特鋼、銅合金、輕金屬等的熔(rong)煉與澆(jiao)鑄。設備由中(zhong)頻電源、雙層水冷爐體(ti)、真(zhen)空機組(zu)、液壓翻轉機構、機械(xie)攪
CVI/CVD設備(bei)是C/C復(fu)合材(cai)料(liao)行(xing)業的主要設備(bei)，設備(bei)通(tong)過(guo)熱解碳(tan)源氣體，而使預(yu)制體獲得致密處(chu)理或涂(tu)層處(chu)理，其中快速(su)氣相(xiang)沉(chen)積(ji)設備(bei)（CVI），具
CVI/CVD設備是C/C復合材料(liao)行業的主要設備，設備通過熱解碳(tan)源氣體(ti)，而(er)使(shi)預(yu)制體(ti)獲得致密處理或涂層處理，其中快(kuai)速(su)氣相沉積設備（CVI），具
HTCF-2000型高溫碳(tan)(tan)(tan)(tan)化爐主要用(yong)于碳(tan)(tan)(tan)(tan)碳(tan)(tan)(tan)(tan)復合材料(liao)、碳(tan)(tan)(tan)(tan)碳(tan)(tan)(tan)(tan)/碳(tan)(tan)(tan)(tan)化硅(gui)復合材料(liao)、以(yi)及(ji)碳(tan)(tan)(tan)(tan)纖維保溫材料(liao)等的碳(tan)(tan)(tan)(tan)化處理(li)。性(xing)能特點1.結構形式：立式或臥式。
HTCF-2000型低溫(wen)碳(tan)化爐主要用于碳(tan)碳(tan)復(fu)合(he)材料(liao)(liao)、碳(tan)碳(tan)/碳(tan)化硅復(fu)合(he)材料(liao)(liao)、以及(ji)碳(tan)纖維保(bao)溫(wen)材料(liao)(liao)等的(de)碳(tan)化處理(li)。性能特點1.結構形式：立式或臥(wo)式。
HAGF型高溫(wen)(wen)石(shi)墨化設備(bei)主要用于碳碳復合材(cai)料(liao)的高溫(wen)(wen)石(shi)墨化處理,也(ye)可用于合金、陶瓷的高溫(wen)(wen)燒結(jie)。設備(bei)在惰性(xing)氣體保護下,加熱(re)升溫(wen)(wen)、恒溫(wen)(wen)、降溫(wen)(wen)，高溫(wen)(wen)
該設備主要用于多晶硅前處理工序，在高(gao)溫(wen)真空環(huan)境下(xia)，對石墨(mo)(mo)(mo)電極、石墨(mo)(mo)(mo)基座(zuo)、石墨(mo)(mo)(mo)卡瓣等進行煅燒，使(shi)石墨(mo)(mo)(mo)部(bu)件經酸(suan)洗、高(gao)溫(wen)烘(hong)干后(hou)仍殘余的水氣(qi)和氯化鹽(yan)
公司產品在多個行業里，均處于優勢地位
深入了(le)解客戶的每一(yi)個工藝(yi)需求，提供適合客戶產品制備的全套解決方案
雄厚的技(ji)術沉淀，嚴(yan)格的環節把控，提供設備(bei)維修、改(gai)造(zao)、升級
提供設(she)備問(wen)題診斷、檢查、維修(xiu)等(deng)相(xiang)應服(fu)務(wu)，確保設(she)備的安全與正常使用
精細化的配件與耗材(cai)提供，為(wei)您(nin)的設備運維(wei)保駕護(hu)航(hang)
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