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該設備主要用于多晶硅前處(chu)理工序(xu),在高溫真空環境下,對石(shi)墨(mo)(mo)(mo)電極(ji)、石(shi)墨(mo)(mo)(mo)基座、石(shi)墨(mo)(mo)(mo)卡瓣等進行(xing)煅燒(shao),使石(shi)墨(mo)(mo)(mo)部件經酸(suan)洗、高溫烘干后仍(reng)殘(can)余的(de)水(shui)氣和氯化鹽
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